ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環體系，成為破解資源約束的黃金路徑。
ITO靶材回收注意事項：
措施：處理酸堿和廢液時需注意和環保。
環保合規：廢液和殘渣需達標處理，避免二次污染。
回收效率：合理選擇工藝，提高銦、錫的回收率和純度。
從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來源中回收氧化銦是銦回收的一個重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過各種工藝實現，包括化學處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產各種半導體器件，從而減少對新銦資源的需求，并將銦開采對環境的影響降至。
目前，市場上已有不少專業的ITO靶材回收企業，他們通過先進的回收技術和設備，將廢舊ITO靶材中的銦、錫等元素進行有效分離和提純，再加工成新的靶材產品，實現了資源的循環利用。
