在實際生產中，ITO靶材通常被加工成圓形或矩形的塊狀，與濺射設備配合使用。濺射過程中，靶材的質量直接影響薄膜的均勻性、附著力和性能。因此，高質量的ITO靶材不僅是技術要求，更是生產效率和產品可靠性的保障。
制備完成后，ITO靶材在實際應用中還會遇到一些問題：
濺射不均勻：如果靶材內部存在微小缺陷或成分偏差，濺射過程中可能出現局部過熱，導致薄膜厚度不一致。
靶材破裂：在高功率濺射時，靶材承受的熱應力可能超出其極限，造成破裂，進而影響生產線的連續性。
資源限制：ITO靶材依賴銦這種稀有金屬，而銦的全球儲量有限，價格波動較大。這不僅推高了成本，也促使業界尋找替代方案。
銦回收具有重要的環保和經濟效益。通過回收廢舊靶材中的銦，可以減少對新資源的開采，降低環境污染，實現資源的可持續利用。此外，回收銦還能穩定市場供應，降低生產成本，促進相關產業的可持續發展。
ITO（Indium Tin Oxide，氧化銦錫）靶材是一種廣泛用于透明導電薄膜材料制備的復合氧化物材料，其主要成分為氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）。通常，ITO靶材中氧化銦與氧化錫的質量比例為90:10，這一比例在實際應用中表現出較為理想的光電特性，使其在透明導電薄膜中廣泛應用。
