ITO靶材回收現(xiàn)狀 隨著科技的飛速發(fā)展，ITO靶材的需求量持續(xù)增長。然而，ITO靶材的生產(chǎn)過程中需要消耗大量的銦資源，而銦是一種稀有的有色金屬，全球儲量有限。因此，ITO靶材的回收再利用不僅有助于節(jié)約資源，還能減少環(huán)境污染，實(shí)現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展。 目前，市場上已有不少專業(yè)的ITO靶材回收企業(yè)，他們通過先進(jìn)的回收技術(shù)和設(shè)備，將廢舊ITO靶材中的銦、錫等元素進(jìn)行有效分離和提純，再加工成新的靶材產(chǎn)品，實(shí)現(xiàn)了資源的循環(huán)利用。
物理分離法中的機(jī)械剝離技術(shù)，是通過破碎、篩分和浮選等方法，將ITO涂層與玻璃基板進(jìn)行分離。隨后，再結(jié)合化學(xué)處理對分離出的ITO涂層進(jìn)行銦的提取。這種方法主要適用于LCD面板的回收，但需注意，其純度可能相對較低。再生銦的應(yīng)用廣泛，包括重新制備ITO靶材，以及在半導(dǎo)體、合金等領(lǐng)域的使用。從經(jīng)濟(jì)角度看，回收1噸銦可以減少大約50噸原礦的開采，同時(shí)，回收銦的成本相比原生銦要低30%~50%。綜上所述，ITO銦的回收不僅對環(huán)境友好，還能帶來顯著的經(jīng)濟(jì)效益。隨著科技的不斷進(jìn)步和電子廢棄物數(shù)量的不斷增加，且環(huán)保的回收方案將成為稀散金屬可持續(xù)利用的關(guān)鍵所在。
溶劑萃取法（化學(xué)法） 以濕法冶金為基礎(chǔ)，通過P204萃取劑選擇性富集銦： 含銦物料經(jīng)硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0條件下進(jìn)行三級逆流萃取，銦萃取率可達(dá)98%。 該工藝對低品位原料（含銦0.02%）適用性強(qiáng)，但存在試劑消耗大（硫酸用量2-3噸/噸銦）、廢水處理成本高的問題。
主流回收工藝分類 當(dāng)前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學(xué)法和聯(lián)合工藝三類： 熔煉過濾法（物理法） 通過高溫熔煉結(jié)合篩網(wǎng)過濾實(shí)現(xiàn)銦與其他金屬的分離。具體流程包括： 廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網(wǎng)（30-40目）截留固態(tài)雜質(zhì)鐵、鋁。 熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。 該方法具有設(shè)備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優(yōu)勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質(zhì)金屬可能熔化導(dǎo)致純度下降至95%以下。