太陽能擴散爐主要滿足光伏電池生產(chǎn)線對125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進行擴散工藝。目前有第二代閉管擴散爐和第三代軟著陸擴散爐。
技術(shù)指標(biāo)：
可處理硅片尺寸：125mm×125mm、156mm×156mm
外型形式：臥式1—4管結(jié)構(gòu)
載片量：400片／管
擴散方式：閉管擴散、軟著陸全封閉
工作溫度：200℃—1300℃
恒溫區(qū)長度及精度：200mm—1100mm≤±1℃
單點溫度穩(wěn)定性、重復(fù)性： ≤±1℃／24h
溫度控制：5段控溫
總功率：120KVA
送片裝置：懸臂推拉舟，碳化硅槳載重17kg
氣路系統(tǒng)：1—5路工藝氣體／管
氣體控制：進口MFC
控制方式：工控機、觸摸屏
Thinnerwafers：180Um
Break rate：0.8％
方阻均勻度范圍：片內(nèi)±5％，片間±5％，批間±5％