氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。
廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。
氧化鈰拋光液
氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度分布均勻、硬度適中等特點。
適用于高精密光學儀器，光學鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。
拋光液使用方法
包括棘輪扳手、開口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺絲刀等，鉛錫合金、鋅合金等金屬產品經過研磨以后，再使用拋光劑配合振動研磨光飾機，滾桶式研磨光式機進行拋光。
1、拋光劑投放量為（根據不同產品的大小，光飾機的大小和各公司的產品光亮度要求進行適當配置）；
2、拋光時間：根據產品的狀態來定；
3、拋光完成后用清水清洗一次并且烘干即可
大理石防護晶面拋光液 大理石加光加硬劑是針對大理石表面需追求超高亮度而設計，具有的滲透性和擴散力，能滲入到大理石基料的分子間隙。加光劑內含溶劑性硬蠟，以及對大理石沒有腐蝕的微酸性，擁有去污、加硬、加光、防滑四大功能，經打磨產生化學反應，可迅速提升大理石地面的光澤度，令石材保持光潔如新的鏡面效果。